基于動態(tài)光散射的溶菌酶水力學直徑研究

采用Zeta電位和粒度分析儀測量了溶菌酶的水力學直徑,研究了pH值、離子強度和脲濃度對其大小的影響.隨著 pH值增加,溶菌酶的水力學直徑呈” W”形分布;在極端的堿性條件下,溶菌酶水力學直徑隨離子強度的增加而顯著變大;中性pH值時,水力學直徑隨離子強度的增加變化不大.脲對溶菌酶具有雙重作用,隨著溶液中脲濃度的增加,溶菌酶的水力學直徑先減小后增大.結果表明,動態(tài)光散射技術可以很好地應用于研究蛋白質(zhì)分子的均一性和穩(wěn)定性,同時也可以通過水力學直徑來表征pH值、離子強度和脲對溶菌酶的影響.

作 者：   作者單位：   刊 名： 化學與生物工程  ISTIC 英文刊名： CHEMISTRY & BIOENGINEERING  年，卷(期)： 2009 26(9)  分類號： O657.39  關鍵詞： 溶菌酶   動態(tài)光散射技術   水力學直徑   離子強度   脲  

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