外場耦合光催化降解有機(jī)污染物研究進(jìn)展

摘要： 介紹了外場耦合光催化降解有機(jī)污染物的研究現(xiàn)狀.圍繞提高光催化過程的量子效率和能量利用率,加速光生載流子的界面遷移率,降低復(fù)合率等問題,通過比較超聲場、磁場、電場、微波場和熱場耦合光催化降解有機(jī)污染物的特點(diǎn),指出了光催化降解有機(jī)污染物存在的問題和今后的研究重點(diǎn). 作 者： 陳中亮    胡德昆    周晶    CHEN Zhong-liang    HU De-kun    ZHOU Jing   作者單位： 陳中亮,胡德昆,CHEN Zhong-liang,HU De-kun(濟(jì)寧化工設(shè)計(jì)院,山東,濟(jì)寧,272000)

周晶,ZHOU Jing(山東省理工職業(yè)學(xué)院化工系,山東,濟(jì)寧,272400) 

期 刊： 化工技術(shù)與開發(fā)    Journal： TECHNOLOGY & DEVELOPMENT OF CHEMICAL INDUSTRY  年，卷(期)： 2010, 39(2)  分類號： X783  關(guān)鍵詞： 外場    光催化    有機(jī)污染物    降解   

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