退火對ZnO薄膜結(jié)構(gòu)及發(fā)光特性的影響

生長在藍(lán)寶石C面上的ZnO薄膜是通過等離子體金屬有機(jī)物化學(xué)汽相淀積方法獲得的,由其X光衍射得知,生長過程中分段退火和最后退火在薄膜中分別引入了張應(yīng)力和壓應(yīng)力.通過對樣品光致發(fā)光光譜研究表明:分段退火樣品在380 nm附近出現(xiàn)了單一激子發(fā)射峰,而最后退火樣品卻出現(xiàn)了與應(yīng)變有關(guān)的Γ?5和Γ?6兩激子發(fā)射峰,同時在兩者的光致發(fā)光光譜中與深能級有關(guān)的熒光峰都未出現(xiàn).

作 者： 王金忠 杜國同 王新強(qiáng) 閆瑋 馬燕 姜秀英 楊樹人 高鼎三 Liu Xiang Cao Hui Xu Junying CHANG R P H   作者單位： 王金忠,杜國同,王新強(qiáng),閆瑋,馬燕,姜秀英,楊樹人,高鼎三(吉林大學(xué)電子工程系光電子聯(lián)合重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,長春,130023)

Liu Xiang,Cao Hui,Xu Junying,CHANG R P H(Material Research Center, Northwestern University, U.S.A.) 

刊 名： 光學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2002 22(2)  分類號： O484.4+1  關(guān)鍵詞： 等離子體金屬有機(jī)物化學(xué)汽相淀積   半高寬   光致發(fā)光光譜  

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