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用干涉法實(shí)現(xiàn)光學(xué)合成孔徑技術(shù)

時(shí)間:2023-05-01 18:14:08 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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用干涉法實(shí)現(xiàn)光學(xué)合成孔徑技術(shù)

分析了傳統(tǒng)干涉成像方式的分辨率受限問題,提出一種干涉條紋場的合成來提高分辨率的方法,并以實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了上述方法的可行性.

作 者: 彭仁軍 吳健 楊春平 陳長庚   作者單位: 電子科技大學(xué)應(yīng)用物理研究所,成都,610054  刊 名: 光學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名: ACTA OPTICA SINICA  年,卷(期): 2002 22(3)  分類號(hào): O436.1  關(guān)鍵詞: 干涉   合成孔徑   錯(cuò)位  

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