納米ZnO去除CH3 SH性能的研究

在常溫、常壓條件下,考察了平均粒徑分別為14.3 nm,21.2 nm,24.1 nm,35.3 nm的ZnO和商品ZnO(約200 nm)對CH3SH的去除性能,通過FTIR和XPS等技術對脫硫反應后的試樣進行了表征.結(jié)果表明,CH3SH主要以分子形式吸附于納米ZnO表面,并隨納米ZnO粒徑的減小,吸附在納米ZnO表面上CH3SH的FTIR特征峰和硫物種XPS特征峰逐漸增強,CH3SH在納米ZnO表面進一步脫質(zhì)子,反應活性逐漸增大,脫硫性能逐漸提高.說明納米ZnO的表面結(jié)構(gòu)是影響脫硫性能的主要因素.

作 者： 邵純紅 孫曙光 李芬 姜安璽 王路 Shao Chunhong Sun Shuguang Li Fen Jiang Anxi Wang Lu   作者單位： 邵純紅,Shao Chunhong(黑龍江工程學院,土木系,哈爾濱,150050;哈爾濱工業(yè)大學市政環(huán)境工程學院,哈爾濱150090)

孫曙光,Sun Shuguang(哈爾濱通力電力控制工程有限公司,哈爾濱,150090)

李芬,Li Fen(哈爾濱理工大學化學與環(huán)境工程學院,哈爾濱,150040)

姜安璽,王路,Jiang Anxi,Wang Lu(哈爾濱工業(yè)大學市政環(huán)境工程學院,哈爾濱,150090) 

刊 名： 黑龍江大學自然科學學報  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NATURAL SCIENCE OF HEILONGJIANG UNIVERSITY  年，卷(期)： 2008 25(3)  分類號： O614.24+1  關鍵詞： 納米ZnO   常溫   CH3SH   脫硫  

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