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高嶺石有機插層機理及其復合物的應用
綜述了近幾十年來國內(nèi)外高嶺石有機插層納米復合材料領(lǐng)域中有機插層理論的研究進展,主要對插層劑在納米層間的形態(tài)及結(jié)構(gòu)、插層過程中水的作用、吸附與插層、脫嵌過程等方面以及納米復合材料的應用進行了詳細的闡述,并在此基礎(chǔ)上提出了該領(lǐng)域研究的重點及熱點.
作 者： 張生輝 楊楊 強穎懷 夏華 ZHANG Sheng-hui YANG Yang QIANG Ying-huai XIA Hua 作者單位： 張生輝,楊楊,強穎懷,ZHANG Sheng-hui,YANG Yang,QIANG Ying-huai(中國礦業(yè)大學,材料科學與工程學院,江蘇,徐州,221008)夏華,XIA Hua(中國地質(zhì)大學,材料科學與化學工程學院,湖北,武漢,430074)
刊 名： 巖石礦物學雜志 ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PETROLOGICA ET MINERALOGICA 年，卷(期)： 2006 25(6) 分類號： P578.964 P579 關(guān)鍵詞： 高嶺石 有機插層 機理 應用【高嶺石有機插層機理及其復合物的應用】相關(guān)文章：
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